DigiVac SNAP 真空控制器 | 自动化吹扫与抽气循环简易工艺控制器

SNAP 真空控制器 | 简单、灵活、自动化的工艺控制

SNAP 真空控制器在一个集成系统中提供精确的真空测量、控制和排气功能，旨在在不牺牲流量性能的前提下自动化并简化真空工艺。凭借专利的双比例波纹管阀门、直观的控制界面和可编程配方，SNAP 为实验室、工业和研究应用提供可靠且可重复的真空调节方案。

新功能亮点：

• 外部阀门实现更快的排气速度
• 每个配方的步骤数增加至 80 步，优化抽气与吹扫循环
• 支持 PLC 控制与模拟量输出

为什么选择 SNAP？

SIMPLE（简单） – 按键控制取代手动真空管理
NIMBLE（灵活） – 高流量设计最大化吞吐量和速度
AUTOMATIC（自动） – 可编程配方提供可重复的精确工艺

核心功能优势

一体化真空控制

• 集成的测量、控制和排气功能
• 专利双比例波纹管阀门，同时具备节流和 bleed 控制能力
• KF25 真空接口，配备高流量 20 mm 流道

简单直观的操作

• 7 英寸触摸屏，大数字显示与实时图表
• 一键式按钮控制：排气 (Vent)、关闭/隔离 (Close)、全真空 (Full Vac)
• 快速设置，几乎无需培训

高级配方控制

• 存储多达 10 个配方，每个配方包含 80 个可编程步骤
• 基于时间和压力的控制，支持 Ramp（斜坡）或 Hold（保持）模式
• 完整的配方控制功能：播放、暂停、停止、倒带、跳过

精确的工艺控制

• 利用真空和受控排气进行设定点控制
• 稳定的 PID 控制实现更快的设定点收敛
• Gentle ramping（温和斜坡）功能，理想用于干燥和冻干等敏感工艺
• 只需轻触按钮即可对真空室进行排气或系统平衡，无需拔管或转动阀门
• 仪表盘按钮控制每个通道的 START/STOP 功能，一键自动排气或隔离系统

技术参数规格

• 真空法兰：KF25（可选外部阀门升级为 KF40）
• 测量范围：1 Torr 至 775 Torr（标准配置）
• 控制范围：2 Torr 至 760 Torr
• 集成传感器：隔离式压电传感器
• 扩展毫托范围：配备 RJ45 端口以添加额外传感器。推荐搭配 DPP Quantum，实现从 0.01 Torr 至 1000 Torr 的监控与控制。

精准流量与工艺控制特性

SIMPLE – 简化实验室操作，以更少控制更多

• 用自动控制取代手动阀门和软管调整
• 允许使用旋片泵和干式涡旋泵替代隔膜泵
• 使泵在接近极限压力下运行，延长使用寿命

NIMBLE – 最大化吞吐量与抽气速度

• 大型内部流道 (20 mm) 加速抽气和蒸发过程
• 可选外部排气阀 (高达 40 mm) 进一步加速排气和抽气
• 基于时间的真空差值控制，动态优化性能

AUTOMATIC PROCESS – 精确控制与直观设计

• 模拟量输入/输出 (0–10V)，便于 PLC 集成和外部控制
• USB 接口，可选 RS232 或 WiFi，支持远程监控和自动化
• 兼容 DigiVac 软件工具进行数据记录和工艺可视化，如 RS232 logger、Stratacapture 和 Torch data logger
• 通过 PC 或云平台进行实时监控

SNAP 接触介质材料

• 304 不锈钢
• 316 不锈钢
• PTFE (聚四氟乙烯)
• Viton (氟橡胶)

典型应用领域

• 真空烘箱与真空干燥
• 冷冻干燥 / 冻干机
• 热真空 (TVAC) 测试
• 旋转蒸发仪
• 粉末干燥与 API 加工
• 电池与材料研究
• 复合材料与食品加工
• 真空腔体 (1L 至 1000L+)

外部阀门控制 (可选)

通过基于时间的真空差值控制优化排气和抽气速度：

• 如果在规定时间内未达到设定点，自动驱动外部阀门
• 可调参数：
  • VD (真空差值) – 允许的设定点偏差
  • VDW (时间窗口) – 达到设定点的允许时间
• 提高效率并缩短循环时间，无过冲现象